技術サポート

イオンビーム研磨機の加工上の利点：

1. RMS面粗さ＜1nm、PV＜10nmの高精度研磨加工が可能（1λ＝632nm）、粗さは変化しません。

2. 加工可能な光学部品の形状には、平面、球面、非球面、自由曲面、オフ軸非球面、楕円、円柱レンズ、プリズムまたは錐レンズがあり、お客様のご要望に応じてカスタマイズ可能です。

3. 加工は非接触方式を採用し、エッジ効果がありません。

4. 加工可能な材料：各種光学部品に用いられるすべての材料、例えば各種光学ガラス、石英ガラス、微結晶、超低膨張ガラス（ULE）、KDP結晶、サファイア、シリコン、炭化ケイ素、赤外線材料などを加工可能です。

5. 制御プログラムは高度に統合化・知能化されており、極めて高い安定性を備えています。

6. 機器は主真空室と副真空室から構成されており、ワークの交換時間を短縮し、加工効率を向上させます。

7. イオンビームの出射スポット径は段階的に調整可能で、1～50mmの異なるビーム径に変更できます。

 

エフォーステクノロジー社のイオンビーム研磨機の特長と革新性

エフォーステクノロジーのイオンビーム研磨装置は、革新的な設計による二室構造と水平加工方式を採用し、高性能な米国Veeco社製オリジナルイオン源システム、高動的特性を備えた運動システム、および強力なプロセス計算・制御ソフトウェアを搭載しています。そのため、エフォースのイオンビーム研磨装置は先進的で高性能かつ信頼性が高く、部品交換効率が良好、ビーム電流の調整範囲が広く、長期間にわたり安定した加工が可能で、操作が簡単かつスマート、さらに加工精度が高いといった優れた特長を有しています。

1）革新的な二室構造と加工方案

高性能サーボモーション軸がワークを搬送し、高効率かつ高信頼性を実現します。

水平加工レイアウトは、ワークの操作を容易にし、鏡面を保護するとともに、スパッタリング物質がイオン源を汚染するのを防ぎ、イオン源を長期間安定して稼働させることができます。

（特許出願番号201811261305.2および201821754806.X）

2）高性能イオン源システム

米国Veeco社の高性能5cmイオン源システムは、機能が強力かつ高度に統合されており、イオン源、中和器、ガス流量の制御、およびビーム電流検出を一体化しています。

高出力密度で、通常版は電圧1200V、電流300mA（出力360W）；高出力版は電圧2000V、電流1000mA（出力2000W）です。

長期間安定して稼働し、イオン源極の先端部の寿命は少なくとも150時間です。

ビーム径の調整範囲が広く、5cmおよび3cmのグリッド網をセットで提供しています。また、1/5/8/10/15/20/30mmなど複数の口径の絞りを用意しており、1～50mmにわたるビーム径（FWHM）を生成します。

3）高ダイナミック特性運動システム

X軸およびZ軸のモーターを外部に配置することで、真空チャンバー内のガス放出を抑え、プロセスを有利にします。

高性能サーボモーターを採用し、高い動的特性と高精度を実現しています。

（特許出願201821753737.0）

4）強力なプロセス計算・制御ソフトウェア

このソフトウェアは10年以上にわたり使用されており、かなり成熟し完璧な状態です。さまざまなアルゴリズムが統合されており、例えば最適加工量を決定するL曲線アルゴリズムや、最適なエッジ拡張アルゴリズム（滑らかな下降拡張法）などが含まれています。

加工解析モジュールを提供し、加工結果とシミュレーション結果を比較・分析できます。これにより、加工中の除去関数の誤差や位置決め誤差を特定でき、その後の加工の確実性と加工精度を向上させることができます。

制御ソフトウェアは高度に統合されており、完全なデジタル監視および各監視システム間の情報共有を実現しています。

制御ソフトウェアは高度なインテリジェンスを備えており、スマートなワンタッチ起動、ワンタッチ停止、タイマー起動、タイマー停止、予約加工、加工保護、遠隔サポートなどの高度な機能を搭載しています。